光氧催化設備原理是以Fe2+或duFe3+及H2O2為介質，通過光助 - 芬頓反應產(chǎn)生羥zhi基自由基使污染物得到dao降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果，是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率，提高羥基自由基的生成
光氧催化設備原理
是以Fe2+或duFe3+及H2O2為介質，通過光助 - 芬頓反應產(chǎn)生羥zhi基自由基使污染物得到dao降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果，是一種有效的催化劑。
紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率，提高羥基自由基的生成速度，并促使有機物形成大量活化分子，來提高難降解有機污染物的處理效率。
非均相光催化降解是利用光照射某些具有能帶結構的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可誘發(fā)產(chǎn)生羥基自由基。
在水溶液中，水分子在半導體光催化劑的作用下，產(chǎn)生氧化能力極強的羥基自由基，可以氧化分解各種有機物。把這項技術應用于POPs的處理，可以取得良好的效果，
但是并不是所有的半導體材料都可以用作這項技術的催化劑，比如CdS是一種高活性的半導體光催化劑，但是它容易發(fā)生光陽極腐蝕，在實際處理技術中不太實用。
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